Porosimetrie

Der Begriff Porosimetrie bezeichnet Methoden zu Messung der Porosität und Porenvolumverteilung eines Materials. Oft wird der Begriff gleich gesetzt mit der Quecksilberporosimetrie. Es gibt jedoch noch zahlreiche andere Verfahren, die vor allem bei der Charakterisierung von dünnen Schichten an Bedeutung gewinnen, wie:

Gasporosimetrie
Flüssig-Flüssig-Porosimetrie
ellipsometrische Porosimetrie (EP)
Quecksilberporosimetrie
Röntgen-Porosimetrie (XRP, engl. x-ray porosimetry)
Ortho-Positronium-Porosimetrie

Einzelnachweise

↑ Mikhail Baklanov: Ellipsometric porosimetry. In: Mikhail Baklanov, Karen Maex, Martin Green (Hrsg.): Dielectric Films for Advanced Microelectronics. John Wiley & Sons, 2007, ISBN 978-0-470-06541-9, S. 117–136.
↑ Christopher L. Soles, Hae-Jeong Lee, B. D. Vogt, Eric K. Lin, Wen-Li Wu: Structure Characterization of Nanoporous Interlevel Dielectric Thin Films With X-Ray and Neutron Radiation. In: Mikhail Baklanov, Karen Maex, Martin Green (Hrsg.): Dielectric Films for Advanced Microelectronics. John Wiley & Sons, 2007, ISBN 978-0-470-06541-9, S. 100–117.
↑ S. Mariazzi: Positron Beam-Based Ortho-Positronium Porosimetry. In: Paolo Bettotti (Hrsg.): Submicron Porous Materials. Springer International Publishing, Cham 2017, ISBN 978-3-319-53035-2, S. 323–343, doi:10.1007/978-3-319-53035-2_11.

[1] Mikhail Baklanov: Ellipsometric porosimetry. In: Mikhail Baklanov, Karen Maex, Martin Green (Hrsg.): Dielectric Films for Advanced Microelectronics. John Wiley & Sons, 2007, ISBN 978-0-470-06541-9, S. 117–136.

[2] Christopher L. Soles, Hae-Jeong Lee, B. D. Vogt, Eric K. Lin, Wen-Li Wu: Structure Characterization of Nanoporous Interlevel Dielectric Thin Films With X-Ray and Neutron Radiation. In: Mikhail Baklanov, Karen Maex, Martin Green (Hrsg.): Dielectric Films for Advanced Microelectronics. John Wiley & Sons, 2007, ISBN 978-0-470-06541-9, S. 100–117.

[3] S. Mariazzi: Positron Beam-Based Ortho-Positronium Porosimetry. In: Paolo Bettotti (Hrsg.): Submicron Porous Materials. Springer International Publishing, Cham 2017, ISBN 978-3-319-53035-2, S. 323–343, doi:10.1007/978-3-319-53035-2_11.