800 nm 공정

800 nm 공정 (800 나노미터 공정)은 1987년에서 1990년 사이에 인텔, ATI 테크놀로지스, IBM과 같은 회사들이 도달한 반도체 제조 공정 기술 수준이다.

800 nm 공정은 안정적으로 생산할 수 있는 최소 크기를 의미한다. 이 공정으로 만들어진 칩의 가장 작은 트랜지스터 및 기타 회로 요소는 약 800 나노미터 너비였다.

800 nm 제조 공정을 특징으로 하는 제품

↑ “ATI EGA Wonder 800+ Specs” (영어). 《TechPowerUp》. 2022년 9월 16일에 확인함.
↑ Chen, Allan, "The 50-MHz Intel486 Microprocessor", Intel Corporation, Microcomputer Solutions, September/October 1991, page 2
↑ Intel Corporation, "Coming Attractions: Clock-Doubling Technology", Microcomputer Solutions, January/February 1992, page 6
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↑ Intel Corporation, "New Product Focus: OEM: Intel Extends Boot Block Flash Memory Line to Two- Four-Mbits", Microcomputer Solutions, September/October 1992, page 16
↑ Chen, Allan, "On the Air and on the Road", Intel Corporation, Microcomputer Solutions, January/February 1993. page 2
↑ Hodson, Gerri, "Anatomy of Intel's Pentium Processor", Intel Corporation, Solutions, May/June 1993, Page 9

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010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022 002 nm – 2025
미래 001 nm – 2027
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