Fälteffekttransistor

JFET; en större motspänning över pn-övergången mellan kanal och gate gör att utarmningsskiktet (grått) blir bredare, så att kanalen (grön) stryps.

En fälteffekttransistor, FET, är en speciell typ av transistor, som finns i två typer: junction FET (JFET) och metalloxid-halvledar-FET (MOSFET). FET-enheter har tre terminaler: source, gate och drain. 

I en fälteffekttransistor styr man mängden elektrisk ström som passerar mellan elektroderna drain och source genom att lägga en elektrisk spänning på den isolerade styret, så kallad styrspänning, och därigenom skapa ett elektriskt fält. Det elektriska fältet styr i sin tur bredden på den kanal i vilken elektronerna (eller hålen) kommer att färdas.

FET-transistorer är också kända som unipolära transistorer eftersom de har drift av en bärvågstyp. Det vill säga att FET:er använder antingen elektroner (n-kanal) eller hål (p-kanal) som laddningsbärare i dess funktion men inte båda. Det finns många olika typer av fälteffekttransistorer. Fälteffekttransistorer uppvisar i allmänhet mycket hög ingångsimpedans vid låga frekvenser. Den mest använda fälteffekttransistorn är MOSFET (metall-oxid-halvledarfälteffekttransistor).

Grundläggande information

FET:er kan vara anordningar med majoritetsladdningsbärare, i vilka strömmen till övervägande del bärs av majoritetsbärare, eller anordningar för minoritetsladdningsbärare, i vilka strömmen huvudsakligen beror på ett flöde av minoritetsbärare. Enheten består av en aktiv kanal genom vilken laddningsbärare, elektroner eller hål, strömmar från källan till avloppet. Source- och drain-terminalledare är anslutna till halvledaren via ohmska kontakter. Kanalens ledningsförmåga är en funktion av potentialen som appliceras över gate- och source-terminalerna.

Tvärsnitt av en MOSFET av n-typ

FET:ens tre terminaler är: 1. source (S), genom vilken bärarna kommer in i kanalen. Konventionellt betecknas ström som kommer in i kanalen vid S med IS. 2. drain (D), genom vilken bärarna lämnar kanalen. Konventionellt betecknas ström som lämnar kanalen vid D med ID. Drain-to-source-spänningen är VDS. 3. gate (G), terminalen som modulerar kanalens konduktivitet. Genom att lägga spänning på G kan man styra ID.

Konstruktion

FET:er kan konstrueras av olika halvledare, av vilka kisel är den absolut vanligaste. De flesta FET:er tillverkas genom att använda konventionella bulkhalvledarbearbetningstekniker, med en enkristallhalvledarskiva som den aktiva regionen eller kanalen.

Bland de mer ovanliga kroppsmaterialen är amorft kisel, polykristallint kisel eller andra amorfa halvledare i tunnfilmstransistorer eller organiska fälteffekttransistorer (OFETs) som är baserade på organiska halvledare. Ofta är OFET-portisolatorer och elektroder också gjorda av organiskt material. Sådana FET:er tillverkas med användning av en mängd olika material som kiselkarbid (SiC), galliumarsenid (GaAs), galliumnitrid (GaN) eller indiumgalliumarsenid (InGaAs).

I juni 2011 meddelade IBM att man framgångsrikt hade använt grafenbaserade FET:er i en integrerad krets. Dessa transistorer har en gränsfrekvens på cirka 2,23 GHz, mycket högre än vanliga kisel-FET:er.

Typer

FET:er av utarmningstyp under typiska spänningar: JFET, MOSFET av polysilikon, MOSFET med dubbelgrind, MOSFET med metallgrind, MESFET.
  Tömning
  Elektroner
  Hål
  Metall
  Isolator
Överst: källa, botten: avlopp, vänster: grind, höger: bulk. Spänningar som leder till kanalbildning visas inte.

Kanalen hos en FET är dopad för att producera antingen en halvledare av n-typ eller en halvledare av p-typ. Dräneringen och källan kan vara dopad av motsatt typ av kanalen, i fallet med förbättringsmod FET, eller dopad av liknande typ till kanalen som i utarmningsmod FET. Fälteffekttransistorer kännetecknas också av metoden för isolering mellan kanal och grind. Typer av FET är:

Se även

Referenser

Den här artikeln är helt eller delvis baserad på material från engelskspråkiga Wikipedia, Field-effect transistor, 9 mars 2025.

Noter

  1. ↑ Jacob Millman (1985). Electronic devices and circuits. Singapore: McGraw-Hill International. sid. 397. ISBN 978-0-07-085505-2
  2. ↑ Jacob Millman (1985). Electronic devices and circuits. Singapore: McGraw-Hill. sid. 384–385. ISBN 978-0-07-085505-2
  3. ↑ Bob Yirka (10 January 2011). ”IBM creates first graphene based integrated circuit”. https://phys.org/news/2011-06-ibm-graphene-based-circuit.html.
  4. ↑ Lin, Y.-M.; Valdes-Garcia, A.; Han, S.-J.; Farmer, D. B.; Sun, Y.; Wu, Y.; Dimitrakopoulos, C.; Grill, A; et al. (2011). ”Wafer-Scale Graphene Integrated Circuit”. Science 332 (6035): sid. 1294–1297. doi:10.1126/science.1204428. PMID 21659599. Bibcode: 2011Sci...332.1294L.
  5. ↑ Belle Dumé (10 december 2012), ”Flexible graphene transistor sets new records”, Physics World, http://physicsworld.com/cws/article/news/2012/dec/10/flexible-graphene-transistor-sets-new-records, läst 14 januari 2019
  6. ↑ Schöning, Michael J.; Poghossian, Arshak (2002). ”Recent advances in biologically sensitive field-effect transistors (BioFETs)”. Analyst 127 (9): sid. 1137–1151. doi:10.1039/B204444G. PMID 12375833. Bibcode: 2002Ana...127.1137S. http://juser.fz-juelich.de/record/16078/files/12968.pdf.
  7. ↑ freepatentsonline.com, HIGFET and method - Motorola]
  8. ↑ Ionescu, A. M.; Riel, H. (2011). ”Tunnel field-effect transistors as energy-efficient electronic switches”. Nature 479 (7373): sid. 329–337. doi:10.1038/nature10679. PMID 22094693. Bibcode: 2011Natur.479..329I.
  9. ↑ Dumé, Isabelle (12 December 2018). ”Topological off-on switch could make new type of transistor”. Physics World. IOP Publishing. https://physicsworld.com/a/topological-off-on-switch-could-make-new-type-of-transistor/.
  10. ↑ ”Organic transistor paves way for new generations of neuro-inspired computers”. ScienceDaily. 29 januari 2010. https://www.sciencedaily.com/releases/2010/01/100125122101.htm.
  11. ↑ Sarvari H.; Ghayour, R.; Dastjerdy, E. (2011). ”Frequency analysis of graphene nanoribbon FET by Non-Equilibrium Green's Function in mode space”. Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures 43 (8): sid. 1509–1513. doi:10.1016/j.physe.2011.04.018. Bibcode: 2011PhyE...43.1509S.
  12. ↑ Jerzy Ruzyllo (2016). Semiconductor Glossary: A Resource for Semiconductor Community. World Scientific. sid. 244. ISBN 978-981-4749-56-5. https://books.google.com/books?id=UlItDQAAQBAJ&pg=PA244
  13. ↑ ”Toward Nanowire Electronics”. IEEE Transactions on Electron Devices 55 (11): sid. 2827–2845. November 2008. doi:10.1109/ted.2008.2008011. ISSN 0018-9383. OCLC 755663637. Bibcode: 2008ITED...55.2827A. https://docs.lib.purdue.edu/nanodocs/174.
  14. ↑ Prakash, Abhijith; Ilatikhameneh, Hesameddin; Wu, Peng; Appenzeller, Joerg (2017). ”Understanding contact gating in Schottky barrier transistors from 2D channels”. Scientific Reports 7 (1): sid. 12596. doi:10.1038/s41598-017-12816-3. ISSN 2045-2322. OCLC 1010581463. PMID 28974712. Bibcode: 2017NatSR...712596P.
  15. ↑ Miklos, Bolza. ”What Are Graphene Field Effect Transistors (GFETs)?”. Graphenea. https://www.graphenea.com/pages/what-are-graphene-field-effect-transistors-gfets.
  16. ↑ IBM Research Unveils 'VTFET': A Revolutionary New Chip Architecture Which is Two Times the Performance finFET Dec 2021

Externa länkar