Fluorosilane

Fluorosilane
Image illustrative de l’article Fluorosilane
Structure du fluorosilane
Identification
Synonymes

fluorure de silyle
No CAS 13537-33-2
No ECHA 100.033.539
No CE 236-909-6
PubChem 6327143
SMILES
F[Si]
PubChem, vue 3D
InChI
Std. InChI : vue 3D
InChI=1S/FSi/c1-2
Std. InChIKey :
ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N
Apparence gaz incolore
Propriétés chimiques
Formule H3FSiSiH3F
Masse molaire 50,107 7 ± 0,000 5 g/mol
H 6,03 %, F 37,92 %, Si 56,05 %,
Propriétés physiques
T° fusion −98,6 °C (sublimation)
T° ébullition −98,6 °C
Masse volumique 2,048 g·L-3
Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.
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Le fluorosilane est un composé chimique de formule SiH3F. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore qui se condense à −98,6 °C en un solide cristallisé dans le système monoclinique, ayant à 96 K le groupe d'espace P21/n (no 14).

Le fluorosilane peut être obtenu en faisant réagir du fluorométhane CH3F avec du silicium, de l'éther de silyle et de méthyle SiH3OCH3 avec du trifluorure de bore BF3 ou du chlorosilane SiH3Cl avec du trifluorure d'antimoine SbF3 :

3 SiH3Cl + SbF3 ⟶ SiH3F + SbCl3.

Le fluorosilane peut être utilisé pour déposer des couches de silicium.

Notes et références

  1. 1 2 (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93e éd, CRC Press, 2016, p. 87. (ISBN 978-1-4398-8050-0)
  2. ↑ Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  3. 1 2 (en) Dale L. Perry, Handbook of Inorganic Compounds, 2e éd., CRC Press, 2016, p. 179. (ISBN 978-1-4398-1462-8)
  4. ↑ (en) Alexander J. Blake, E. A. V. Ebsworth, Steven G. D. Henderson et Alan J. Welch, « Structure of silyl fluoride, SiH3F, at 96 K », Acta Crystallographica Section C, vol. C41,‎ , p. 1141-1144 (DOI 10.1107/S0108270185006904, lire en ligne)
  5. ↑ (en) Han-Gook Cho, « Investigation of Reaction Paths from Si + CH4 to C + SiH4 and from Si + CH3F to C + SiH3F: Intrinsic Reaction Coordinate Studies », Journal of the Korean Chemical Society, vol. 60, no 2,‎ , p. 149-153 (DOI 10.5012/jkcs.2016.60.2.149, lire en ligne)
  6. ↑ (en) Advances in Inorganic Chemistry and Radiochemistry, Academic Press, 1961, p. 236. (ISBN 978-0-08-057852-1)
  7. ↑ (en) C. C. Addison, Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements, Royal Society of Chemistry, 1973, p. 188. (ISBN 978-0-85186-752-6)
  8. ↑ (en) Akihisa Matsuda, Kiyoshi Yagii, Takao Kaga et Kazunobu Tanaka, « Glow-Discharge Deposition of Amorphous Silicon from SiH3F », Japanese Journal of Applied Physics, vol. 23, no 8,‎ , L576-L578 (DOI 10.1143/JJAP.23.L576, Bibcode 1984JaJAP..23L.576M, lire en ligne)